中國發明與專利雜志

中國發明與專利雜志介紹

《中國發明與專利》是一本由國家知識產權局主管，知識產權出版社有限責任公司;中國發明協會主辦的面向國內外公開發行的工業類期刊，該刊主要報道工業相關領域的研究成果與實踐。該刊已入選統計源期刊。影響因子為0.64。《中國發明與專利》主要內容欄目有理論與方法、分析與應用、業界與思考、本刊互動。

《中國發明與專利》主要發文機構有：國家知識產權局（發文量1724篇），該機構主要研究主題為“審查；知識產權；產權；權利；專利審查”；《中國發明與專利》編輯部（發文量141篇），該機構主要研究主題為“知識產權；產權；董事；董事長；專利信息”；國家知識產權局專利檢索咨詢中心（發文量119篇），該機構主要研究主題為“知識產權；產權；申請人；專利權；利權”。

《中國發明與專利》主要發文主題有知識產權、產權、企業、專利權、利權、審查、侵權、權利、專利法、糾紛。其中又以”知識產權（1668篇）”居于榜首，發文量第二的是“產權”（1555篇），發文量第三的是“企業”（461篇），發文主題最少的是“糾紛”，僅發文236篇。

中國發明與專利影響力及榮譽

• 統計源期刊(中國科技論文優秀期刊)
• 知網收錄(中)
• 維普收錄(中)
• 萬方收錄(中)
• 國家圖書館館藏
• 上海圖書館館藏
• 中國優秀期刊遴選數據庫
• 中國期刊全文數據庫（CJFD）
• 中國科技期刊優秀期刊

中國發明與專利投稿注意事項

1、來稿要求：

本刊歡迎下列來稿：工業及相關學科領域的研究方面的論著，反映國內外工業學術動態的述評、論著、綜述、講座、學術爭鳴的文稿，以及有指導意義的工業書刊評價等。文稿應具科學性、先進性、新穎性和實用性，內容翔實，簡明扼要，重點突出，文字數據務求準確，層次清楚，標點符號準確，圖表規范，書寫規范。本刊不接受已公開發表的文章，嚴禁一稿兩投。對于有涉嫌學術不端行為的稿件，編輯部將一律退稿，來稿確保不涉及保密、署名無爭議等，文責自負。

2、作者簡介：

述評、專家論壇、指南解讀欄目來稿請附第一作者及通信作者的個人簡介及近照。個人簡介內容包括職稱、職務、學術兼職、主要研究領域、主要研究成果、所獲重大榮譽獎項等，字數以 100～300 字為宜。近照以 2 寸免冠彩色證件照為宜，格式為“.jpg”，像素不得低于 300 dpi。

3、文題：

文題力求簡明、醒目，反映文稿主題，中文文題控制在 20 個漢字以內。題名中應避免使用非公知公用的縮略語、字符、代號以及結構式和公式。有英文摘要者同時給出英文文題，中英文文題含義應一致。

4、圖表：

文中所有圖表均需為作者自行制作而非引用他人文獻中的圖表。圖表力求簡明，設計應科學，避免與正文重復。凡能用少量文字說明的數據資料盡量不用圖表。正文與表中數據應認真核對，準確無誤，表內數據同一指標的有效位數應一致。