等離子化學和等離子處理

Plasma Chemistry And Plasma Processing 出版商:Springer US ISSN:0272-4324 E-ISSN:1572-8986

首頁 物理與天體物理 期刊介紹(非官網)

等離子化學和等離子處理基本信息 SCIE

等離子化學和等離子處理是一本在物理與天體物理領域享有國際盛譽的優秀雜志,其國際簡稱為PLASMA CHEM PLASMA P,全稱《Plasma Chemistry And Plasma Processing》,由知名出版機構Springer US主辦并發行。自1981年創刊以來,該雜志一直致力于發表物理與天體物理領域的專業學術論文,展現獨特且具有前瞻性的科研成果。它不僅是學術交流的重要平臺,更促進了國內外同行間的深入研討與思想碰撞,為物理與天體物理的發展做出了卓越貢獻。

基本信息:
ISSN:0272-4324
E-ISSN:1572-8986
大類學科:物理與天體物理
研究方向:工程技術 - 工程:化工
出版信息:
創刊時間:1981
出版地區:UNITED STATES
出版周期:Quarterly
出版語言:English
評價信息:
年發文量:123
中科院分區:3區
JCR分區:Q2
CiteScore:5.9

等離子化學和等離子處理雜志介紹

等離子化學和等離子處理(Plasma Chemistry And Plasma Processing)(國際簡稱:PLASMA CHEM PLASMA P)是一本專注于物理與天體物理領域的學術期刊。該期刊由知名的科學出版機構Springer US出版。自1981年創刊以來,該雜志一直致力于推動ENGINEERING, CHEMICAL領域的知識創新和學術交流。雜志的內容豐富,覆蓋了物理與天體物理的多個子領域,致力于發表物理與天體物理各子領域的高質量研究。雜志的審稿標準嚴格,并通過同行評審流程確保發表的文章達到學術界的標準。此外,作為物理與天體物理領域的研究者和專業人士,等離子化學和等離子處理是一個不可或缺的資源,它不僅提供了最新的科研信息,也是了解該領域最新研究動態和趨勢的重要窗口。

期刊CiteScore指數(2024年最新版)

CiteScore排名

CiteScore SJR SNIP CiteScore排名
5.9 0.48 0.912

學科類別

大類:Physics and Astronomy 小類:Condensed Matter Physics

分區

Q1

排名

108 / 434

百分位

75%

5.9 0.48 0.912

學科類別

大類:Physics and Astronomy 小類:Surfaces, Coatings and Films

分區

Q2

排名

34 / 132

百分位

74%

5.9 0.48 0.912

學科類別

大類:Physics and Astronomy 小類:General Chemical Engineering

分區

Q2

排名

79 / 273

百分位

71%

5.9 0.48 0.912

學科類別

大類:Physics and Astronomy 小類:General Chemistry

分區

Q2

排名

119 / 408

百分位

70%

CiteScore: 通過計算期刊在特定時間內發表的論文的平均引用次數來衡量期刊的影響力。CiteScore作為Scopus中一系列指標的一部分,與其他如SNIP(源文檔標準化影響)和SJR(SCImago 雜志排名)等指標一起,為期刊評價提供了多維度的視角。

中科院分區

中科院SCI期刊分區2023年12月升級版

Top期刊 綜述期刊 大類學科 小類學科
物理與天體物理 3區
ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工
3區
PHYSICS, APPLIED 物理:應用
3區
PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體
3區
中科院分區表: 旨在評估期刊的學術影響力,為學術投稿提供參考,為科研管理部門的宏觀判斷提供支撐。中科院分區表分區覆蓋廣泛,對JCR(Journal Citation Reports)的自然科學版(SCIE)和社會科學版(SSCI)的全部期刊進行分區,并提供大、小類兩種學科分類體系的分區數據,幫助科研人員在特定學科領域內進行更精確的比較和選擇。

WOS(JCR)分區(2023-2024年最新版)

按JIF指標學科分區 收錄子集 分區 排名 百分位
學科:ENGINEERING, CHEMICAL SCIE Q3 91 / 170

46.8%

學科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 81 / 179

55%

學科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q2 12 / 40

71.3%

按JCI指標學科分區 收錄子集 分區 排名 百分位
學科:ENGINEERING, CHEMICAL SCIE Q2 55 / 171

68.13%

學科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 69 / 179

61.73%

學科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q2 17 / 40

58.75%

期刊近年評價數據統計

中科院分區表

影響因子和CiteScore

等離子化學和等離子處理投稿注意事項

等離子化學和等離子處理(Plasma Chemistry And Plasma Processing)是由Springer US出版商出版的一本專業學術雜志,收稿方向涵蓋物理與天體物理全領域,在行業領域中學術影響力很大,作為行業內的優秀期刊,等離子化學和等離子處理在學術界享有極高的關注度和專業認可度,是ENGINEERING, CHEMICAL研究者發表重要學術成果的首選平臺。盡管審稿速度 較慢,6-12周 ,需要耐心等待,但這也是對學術質量的嚴格把控和尊重。等離子化學和等離子處理近期未被列入任何國際期刊預警名單,其學術嚴謹性和出版標準得到了國際學術界的廣泛認可。對于追求在頂級期刊發表研究成果的學者,我們強烈推薦關注并投稿至等離子化學和等離子處理。誠邀您將您的突破性研究成果投稿至等離子化學和等離子處理,與全球科研同仁共享您的學術洞見,并推動ENGINEERING, CHEMICAL的進步。

作者在撰寫學術論文時,作者應嚴格遵守以下準則,以提升論文的學術質量和增加其被接受的可能性:

1、科學性與創新性:確保研究具有明確的科學依據,并且提供領域內的新見解或方法。

2、邏輯性:論文結構應清晰,論點連貫,使讀者能夠順暢地理解作者的思考過程。

3、語言準確性:使用規范的科學術語和表達方式,避免語法錯誤和拼寫錯誤,確保語言的專業性和準確性。

4、數據精確性:所有數據必須經過嚴格校驗,包括表格、圖表和計量單位,以確保研究結果的準確性和可信度。

5、文獻引用:優先引用高質量、時效性強的文獻,特別是目標期刊發表的相關文章,這有助于提升論文的學術權威性。

6、避免一稿多投:遵守學術規范,不得同時向多個期刊提交同一篇論文,以免觸犯著作權法并損害個人學術聲譽。

相關期刊

若用戶需要出版服務,請聯系出版商:SPRINGER, 233 SPRING ST, NEW YORK, USA, NY, 10013。

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