微細(xì)加工技術(shù)雜志

主辦單位:中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第48研究所
主管單位:信息產(chǎn)業(yè)部

微細(xì)加工技術(shù)雜志基本信息 統(tǒng)計(jì)源期刊

《微細(xì)加工技術(shù)》由伍三忠擔(dān)任主編,由中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第48研究所主辦的一本電子類統(tǒng)計(jì)源期刊。該刊創(chuàng)刊于1983年。主要刊登電子學(xué)科方面有創(chuàng)見的學(xué)術(shù)論文,介紹有特色的科研成果,探討有新意的學(xué)術(shù)觀點(diǎn)提供交流平臺(tái),擴(kuò)大國(guó)內(nèi)外同行學(xué)術(shù)交流。本刊為雙月刊,A4開本,歡迎廣大讀者訂閱或投稿。

基本信息:
ISSN:1003-8213
CN:43-1140/TN
期刊類別:電子
郵發(fā)代號(hào):--
出版信息:
創(chuàng)刊時(shí)間:1983
出版地區(qū):湖南
出版周期:雙月刊
出版語(yǔ)言:中文
主編:伍三忠
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微細(xì)加工技術(shù)雜志介紹

《微細(xì)加工技術(shù)》是一本由信息產(chǎn)業(yè)部主管,中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第48研究所主辦的一本面向國(guó)內(nèi)外公開發(fā)行的電子類期刊,該刊主要報(bào)道電子相關(guān)領(lǐng)域的研究成果與實(shí)踐。該刊已入選統(tǒng)計(jì)源期刊。 《微細(xì)加工技術(shù)》主要內(nèi)容欄目有綜述、電子束技術(shù)、離子束技術(shù)、光子束技術(shù)、薄膜技術(shù)、微機(jī)械加工技術(shù)、納米技術(shù)。

《微細(xì)加工技術(shù)》主要發(fā)文機(jī)構(gòu)有:中國(guó)科學(xué)院(發(fā)文量192篇),該機(jī)構(gòu)主要研究主題為“光刻;電子束曝光;曝光機(jī);電子束曝光機(jī);掩模”;上海交通大學(xué)(發(fā)文量129篇),該機(jī)構(gòu)主要研究主題為“微機(jī)電系統(tǒng);電系統(tǒng);機(jī)電系統(tǒng);MEMS;刻蝕”;清華大學(xué)(發(fā)文量60篇),該機(jī)構(gòu)主要研究主題為“微細(xì);光刻;微細(xì)加工;離子束;聚焦離子束”。

《微細(xì)加工技術(shù)》主要發(fā)文主題有光刻、離子注入、電子束曝光、刻蝕、半導(dǎo)體、電路、微細(xì)、集成電路、微細(xì)加工、曝光機(jī)。其中又以”光刻(151篇)”居于榜首,發(fā)文量第二的是“離子注入”(105篇),發(fā)文量第三的是“電子束曝光”(79篇),發(fā)文主題最少的是“曝光機(jī)”,僅發(fā)文57篇。

微細(xì)加工技術(shù)影響力及榮譽(yù)

微細(xì)加工技術(shù)投稿注意事項(xiàng)

1、來稿要求:

本刊歡迎下列來稿:電子及相關(guān)學(xué)科領(lǐng)域的研究方面的論著,反映國(guó)內(nèi)外電子學(xué)術(shù)動(dòng)態(tài)的述評(píng)、論著、綜述、講座、學(xué)術(shù)爭(zhēng)鳴的文稿,以及有指導(dǎo)意義的電子書刊評(píng)價(jià)等。文稿應(yīng)具科學(xué)性、先進(jìn)性、新穎性和實(shí)用性,內(nèi)容翔實(shí),簡(jiǎn)明扼要,重點(diǎn)突出,文字?jǐn)?shù)據(jù)務(wù)求準(zhǔn)確,層次清楚,標(biāo)點(diǎn)符號(hào)準(zhǔn)確,圖表規(guī)范,書寫規(guī)范。本刊不接受已公開發(fā)表的文章,嚴(yán)禁一稿兩投。對(duì)于有涉嫌學(xué)術(shù)不端行為的稿件,編輯部將一律退稿,來稿確保不涉及保密、署名無爭(zhēng)議等,文責(zé)自負(fù)。

2、作者簡(jiǎn)介:

述評(píng)、專家論壇、指南解讀欄目來稿請(qǐng)附第一作者及通信作者的個(gè)人簡(jiǎn)介及近照。個(gè)人簡(jiǎn)介內(nèi)容包括職稱、職務(wù)、學(xué)術(shù)兼職、主要研究領(lǐng)域、主要研究成果、所獲重大榮譽(yù)獎(jiǎng)項(xiàng)等,字?jǐn)?shù)以 100~300 字為宜。近照以 2 寸免冠彩色證件照為宜,格式為“.jpg”,像素不得低于 300 dpi。

3、文題:

文題力求簡(jiǎn)明、醒目,反映文稿主題,中文文題控制在 20 個(gè)漢字以內(nèi)。題名中應(yīng)避免使用非公知公用的縮略語(yǔ)、字符、代號(hào)以及結(jié)構(gòu)式和公式。有英文摘要者同時(shí)給出英文文題,中英文文題含義應(yīng)一致。

4、圖表:

文中所有圖表均需為作者自行制作而非引用他人文獻(xiàn)中的圖表。圖表力求簡(jiǎn)明,設(shè)計(jì)應(yīng)科學(xué),避免與正文重復(fù)。凡能用少量文字說明的數(shù)據(jù)資料盡量不用圖表。正文與表中數(shù)據(jù)應(yīng)認(rèn)真核對(duì),準(zhǔn)確無誤,表內(nèi)數(shù)據(jù)同一指標(biāo)的有效位數(shù)應(yīng)一致。

微細(xì)加工技術(shù)數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)

  • 總發(fā)文量:--
  • 總被引量:758
  • 平均引文率:--
  • H指數(shù):14
  • 期刊他引率:1
主要發(fā)文機(jī)構(gòu)分析
機(jī)構(gòu)名稱 發(fā)文量 主要研究主題
中國(guó)科學(xué)院 192 光刻;電子束曝光;曝光機(jī);電子束曝光機(jī);掩模
上海交通大學(xué) 129 微機(jī)電系統(tǒng);電系統(tǒng);機(jī)電系統(tǒng);MEMS;刻蝕
清華大學(xué) 60 微細(xì);光刻;微細(xì)加工;離子束;聚焦離子束
中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué) 47 刻蝕;離子束;離子束刻蝕;光刻;衍射
電子工業(yè)部 46 離子注入;注入機(jī);離子注入機(jī);半導(dǎo)體;電路
中國(guó)科學(xué)院微電子研究所 38 光刻;掩模;X射線光刻;電子束曝光;分辨率
中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所 34 光柵;MEMS;刻蝕;光刻;傳感
山東大學(xué) 29 電子束;電子束曝光;曝光機(jī);電子束光刻;電子束曝光機(jī)
山東工業(yè)大學(xué) 28 電子束曝光;曝光機(jī);電子束曝光機(jī);電子束;電路
華中理工大學(xué) 26 刻蝕;濺射;半導(dǎo)體;等離子體;離子束
主要資助項(xiàng)目分析
資助項(xiàng)目 涉及文獻(xiàn)
國(guó)家自然科學(xué)基金 256
國(guó)家高技術(shù)研究發(fā)展計(jì)劃 65
國(guó)家重點(diǎn)基礎(chǔ)研究發(fā)展計(jì)劃 54
國(guó)家教育部博士點(diǎn)基金 17
國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室開放基金 15
山東省自然科學(xué)基金 13
中國(guó)科學(xué)院知識(shí)創(chuàng)新工程 11
中國(guó)博士后科學(xué)基金 10
上海市自然科學(xué)基金 8
中國(guó)科學(xué)院知識(shí)創(chuàng)新工程重要方向項(xiàng)目 8
年度參考文獻(xiàn)報(bào)告

微細(xì)加工技術(shù)文章摘錄

  • 電子束曝光控制軟件系統(tǒng)設(shè)計(jì)與實(shí)現(xiàn) 作者:魏淑華; 宋志; 張今朝; 韓立
  • 中能離子注入機(jī)用靜電吸盤 作者:肖仁耀; 孫雪平
  • 激光聚焦掃描扇區(qū)掩模制作光電碼盤新方法 作者:趙立新; 胡松; 王肇志; 羅正全
  • ICP刻蝕技術(shù)在808 nm激光器中的應(yīng)用 作者:王致遠(yuǎn)
  • 柔性襯底上六噻吩薄膜的有序生長(zhǎng) 作者:沐俊應(yīng); 陳振興; 梁氏秋水
  • 藍(lán)寶石襯底上二維亞波長(zhǎng)增透結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)分析 作者:徐啟遠(yuǎn); 劉正堂; 李陽(yáng)平; 閆峰
  • 等離子輔助化學(xué)氣相沉積制備可延展的硅薄膜 作者:韓喻; 謝凱
  • Zn1-xCoxO納米復(fù)合薄膜的磁特性 作者:任妙娟; 唐海馬; 趙鵬; 張軍
  • 藍(lán)寶石襯底的化學(xué)機(jī)械拋光工藝研究 作者:趙之雯
  • 反相微乳法制備鋯錳摻雜六鋁酸鹽催化劑的研究 作者:王苑娜; 余倩; 余林; 張綺旎; 孫明; 凌偉軍; 江東權(quán); 莫春生
,地址:長(zhǎng)沙市第96號(hào)信箱301分箱(長(zhǎng)沙黑石鋪),郵編:410111。本站僅做歷史信息展示,不提供任何服務(wù)。

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